光刻是集成電路（IC或芯片）生產中的重要工藝之一。簡單地說，就是利用光掩模和光刻膠在基板上復制電路圖案的過程。
硅片上涂有二氧化硅絕緣層和光刻膠。光刻膠在紫外光照射下很容易被顯影劑溶解，經過溶解和蝕刻后，電路圖案就會留在基板上。
光刻膠與樹脂、溶劑和添加劑結合在一起。光刻膠的感光范圍為200nm-500nm。因此，許多半導體實驗室會采用黃光來阻擋500nm紫外波長，以防止光刻膠曝光過度或過早曝光的情況。
為什么用黃光?
因為黃光的波長較長, 難以使得光刻膠曝光, 因此將黃光作光刻區域的照明光源。
除了上面的原因，還有如下幾點：
- 避免干擾光刻工藝
在半導體微影制程中，實際使用的光源并非黃光，而是深紫外光（DUV）或極紫外光（EUV），這些短波長光源用于精確地在硅晶圓表面的光刻膠上刻畫微細電路圖案。
- 保護敏感材料
半導體生產過程中使用的某些材料可能對可見光譜中的某些波長敏感，尤其是對紫外線敏感。黃光的波長較長，不易引起這些敏感材料的化學反應。
- 視覺舒適性
黃光相較于藍光等短波長光對人眼更加柔和，有助于減少長時間在無塵室工作的員工因高強度照明產生的視覺疲勞。
