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佳能二手i-line光刻機CANON FPA 3000 I4 ，可對尺寸為8英寸的晶圓進行加工處理...
ASML二手ARF光刻機AT 1150，193nm，拆卸以及包裝已經完成，隨時可發貨。...
佳能canon 二手i-line光刻機FPA-5500IZ+，分辨率350nm，可對12英寸晶圓進行光刻工藝加工。...
尼康的這款i-line光刻機NSR 2205i12D。分辨率≦350 nm，曝光光源i-line（365nm波長），縮小比1:5，曝光場22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 對準精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。...
ASML 二手翻新DUV光刻機生產于2006年，可針對于300mm尺寸的晶圓進行處理。...
TWINSCAN XT:450G 365-nm步進式掃描系統是一種高生產率的雙級光刻工具，設計用于批量生產分辨率低至 220-nm 及以上的關鍵 i-line 應用。...
TWINSCAN XT:400G 365 nm步進掃描系統是一種超高生產率的雙級光刻工具，專為350 nm分辨率的300 mm晶圓批量生產而設計...
TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系統是一種高生產率的雙級浸沒式光刻工具，專為 45 納米及以下分辨率的 300 毫米晶圓批量生產而設計。...
XT:1450 是先進的干式 ArF 批量生產系統。它提高了 IC 制造商的所有權價值，在批量制造條件下每小時可生產 143 片晶圓。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增強的鏡頭像差控制和增強的疊加...
XT：1400Ei擁有高性能蔡司1400i鏡頭，擁有從0.65到0.93，此外，濕式系統增加了兩倍自由度。...
WINSCAN XT:1250i使用193 nm波長的光，具有數值孔徑為0.85的透鏡系統。它被描述為預生產光刻掃描儀，標志著在1150i的Twinscan上的一個進步，這是ASML最初的浸入式原型，其數值孔徑相對較低，...
ASML二手翻新現貨ArF光刻機XT:1250B，分辨率<70nm。...
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