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光刻機作為集成電路生產中不可或缺的重要設備之一，在分析人士看來，EUV 光刻技術或非是通向先進制程的必由之路。...
尼康宣布，將于2024年1月正式推出ArF 193納米浸沒式光刻機“NSR-S636E”，生產效率、套刻精度都會有進一步提升。...
從中國科學院深圳先進技術研究院獲悉，該院先進集成技術研究所副研究員李光元團隊提出在光子芯片上減慢光速新方法，有望極大地提高慢光光子芯片器件的性能，并在光傳感、光通...
2024年 1 月 2 日消息，今早，全球光刻機龍頭 ASML 在官網發布聲明稱，荷蘭政府最近吊銷了該公司 2023 年發貨 TWINSCAN NXT:2050i 和 NXT:2100i 光刻機的部分許可證，這會對其少數中國客戶產生...
荷蘭阿斯麥公司將優先向美國英特爾公司交付其新型高數值孔徑的極紫外光刻機。據悉，每臺新機器的成本超過3億美元，可幫助計算機芯片制造商生產更小、更快的半導體。...
廣東省社科院金凱：中韓半導體產業正從“互補性”合作轉向“競爭性”合作.金凱表示，從全球半導體市場來看，中國、美國是世界上最大的兩個半導體市場，整個亞太地區半導體市場...
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