隨著TWINSCAN XT：1400Ei的發(fā)布，使用ArF浸入式光刻生產(chǎn)65nm體積現(xiàn)在成為現(xiàn)實。此外，這款第三代“濕式”工具可以讓你研究55納米內(nèi)存和45納米邏輯節(jié)點，以及極化等先進技術(shù)。
XT：1400Ei擁有高性能蔡司1400i鏡頭，擁有從0.65到0.93，使其成為當(dāng)時市場上最大的NA光刻工具。浸入鏡頭采用與Starlith1400干鏡頭相同的設(shè)計，保證現(xiàn)有的低像差和雜散光水平轉(zhuǎn)移到浸入技術(shù)。此外，濕式系統(tǒng)增加了兩倍自由度。
XT：1400Ei配備了ASML的Ultra-k1——一套成像增強硬件和軟件，使更小的功能尺寸和更高的產(chǎn)量——以獲得最大的性價比。
