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Suss MicroTec ACS200 是一種自動光刻膠涂層和烘烤站，具有盒到盒基底操作。它支持在各種基材上旋涂和噴涂光刻膠。該工具提供完整的抗蝕劑涂層功能，包括高達 250 °C 的熱板烘烤和背面...
HP-200是為光刻、MEMS和類似應用中的精密熱處理工藝而開發的。默認溫度范圍設計為高達250°C。...
CLEAN TRACK? LITHIUS? 是一款 300/200mm 涂布機/顯影機。為應對劇烈波動的市場需求，CLEAN TRACK? LITHIUS? 的開發基于三個概念：改進的處理、縮短的循環時間和增強的網絡解決方案。它提高...
半導體制造設備涂膠顯影機,應用于半導體制造的光刻工藝中，是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設備。在該設備的涂膠（coat）單元中，硅片上面的感光劑首先被涂布，后被...
The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模對準器被廣泛認為是半導體微米研究和微系統生產的基準。憑借其創新設計，該平臺可滿足客戶對精度、靈活性和低成本的需求。 在實驗室環境中，在 MA/BA6上...
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